Folyamatos mágneses porlasztó PVD vákuumos bevonatsor

Folyamatos Magnetron Sputtering PVD Vákuumos bevonatsor, amelynek középpontjában a magnetronporlasztás áll, a folyamat nagy{0}}vákuum környezetben működik, ahol kombinált elektromos és mágneses mezők korlátozzák az elektronokat, hogy bombázzák a célanyagot, ez a művelet atomokat vagy molekulákat szór ki a célból, és lerakja azokat egy mozgó hordozó felületére.

Az egyenáramú, MF és RF tápegységekkel kompatibilis rendszer fémfóliákat, ötvözetfóliákat, oxid-dielektromos fóliákat és többrétegű kompozit funkcionális filmeket tud lerakni.

Folyamatos kamrarendszer szegmentált szigeteléssel a vákuumgradiensek fenntartásához, független zónákkal az adagoláshoz, bevonáshoz és kirakodáshoz, ezáltal lehetővé téve a megszakítás nélküli, folyamatos termelést.

Berendezés jellemzői

A folyamatos gyártás szükségtelenné teszi a vákuum ismételt feltörését
A szegmentált vákuumzár-kamra lehetővé teszi a szubsztrátumok folyamatos szállítását a berendezésbe és onnan ki, kiküszöbölve a tételes feldolgozáshoz kapcsolódó porszívózási és légtelenítési várakozási időt, és jelentősen megnöveli a termelési kapacitást.

Alacsony-hőmérsékletű bevonási folyamat
Az aljzat hőmérséklet-emelkedése szabályozható, így elkerülhető a hőérzékeny, rugalmas és műanyag felületek, például a PET, PI, PC és akril károsodása. Üveg, kerámia és fémlemez hordozóival is kompatibilis.

A filmréteg sűrű és egyenletes, erős tapadású
A nagy-felületű mágneses tér optimalizálása kiváló filmvastagságot biztosít a teljes hordozón.

Rugalmas célkonfiguráció és bevonóanyagok széles választéka

Moduláris gépkialakítás, nagyfokú testreszabhatóság
Testreszabható az ügyfél szubsztrát mérete, szélessége, gyártási kapacitása és a fóliarendszer követelményei szerint.

PLC automatizálási vezérlés
Érintőképernyős HMI; a folyamatparaméterek tárolhatók és nyomon követhetők.

 

Kemény lemez: üveg, kerámia, PC lemez

 

Építőipari és háztartási gépek üvegei:

Alacsony-E energiatakarékos-üveg, háztartási készülék panelek, dekoratív tükrök, autóüvegek, HUD optikai üvegek

 

Fotovoltaikus ipar: fotovoltaikus burkolat TCO vezető fólia

 

Szórakoztató elektronika: érintőüveg, PC/PMMA dekoratív vezetőképes lapok

 

Kerámia hordozó: DPC kerámia rézbevonat, kerámia áramköri lap fémbevonat

 

Dekorációs ipar: nagy felületű lemezes díszítőfólia,{0}}korróziógátló funkcionális fólia

 

Réz, ezüst és egyéb vezető anyagok vákuumbevonata elektromos alkatrész-kerámiák és áramköri kerámiák felületén.

 

Alkalmas különféle fémfóliarétegek vákuumleválasztására más lemezek{0}}például munkadarabok (üveg, akrillemez stb.) felületére is;

A mágneses tér korlátozza a plazmát

Ez a magnetronporlasztás alapvető jellemzője. Egy meghatározott alakú (általában gyűrű vagy versenypálya alakú) erős mágneses mező alkalmazásával a célfelület közelében az elektronok a célfelület közelébe záródnak, hogy spirális mozgást végezzenek, ami nagymértékben növeli az elektronok ütközésének és ionizációjának valószínűségét a működő gáz (általában argon) atomokkal.

Magas ionizációs sebesség és magas lerakódási sebesség

A mágneses térelzárás jelentősen növeli a plazmasűrűséget és az ionizációs sebességet, így a porlasztási folyamat hatékonyabb.

Ez azt jelenti, hogy viszonylag alacsony gáznyomás és alacsony porlasztási feszültség/teljesítmény mellett sokkal nagyobb porlasztási és leválasztási sebesség érhető el, mint a hagyományos egyenáramú porlasztásnál.

Alacsony hőmérsékletű folyamat

Mivel az energia nagy részét a gáz és a porlasztó célatomok ionizálására használják fel, viszonylag kevés hő kerül át a hordozóra.

Jó filmminőség

Jó sűrűség, erős tapadás, nagy tisztaság és jó egyenletesség.

Anyagok alkalmazkodóképességének széles skálája

Jó folyamatszabályozhatóság

A magnetronos porlasztóbevonat gyártósor a funkcionális vékonyrétegek (például optikai fóliák, vezető fóliák, kopásálló keményfóliák, dekoratív fóliák, korróziógátló fóliák, mágneses fóliák, félvezető fóliák stb.) előállításának egyik fő technológiájává vált a modern iparban, köszönhetően alapvető jellemzőinek (magas hőmérséklet, kiváló lerakódási sebesség, alacsony rétegvesztési sebesség) tapadás), széles anyagi alkalmazkodóképesség, jó egyenletesség és irányíthatóság.